半導體恒溫恒濕箱的冷卻循環(huán)水套的清理方法

冷卻循環(huán)水套內有結垢時，導致制冷標準惡變，影響半導體恒溫恒濕箱導熱特性，將半導體恒溫恒濕箱的排氣管溫度上升而造成很多后遺癥，應定期維護與消除冷卻循環(huán)水套內的污垢。水垢的形成主要是因為在常用的冷卻循環(huán)水中帶有機械設備殘渣（如細沙）等，在水冷器中產生沉積，水體太硬（如石灰粉以及它有機化學殘渣）也會沉積成污垢層，危害制冷實際效果。

在水冷器中積有沉垢時，可選用以下方式開展消除。如選用機械設備消除（用專用工具鏟刮等），有艱難時，可以用5~25%的鹽酸溶液開展酸洗鈍化：先將水冷器內的冷卻循環(huán)水釋放后，將鹽酸溶液灌進，依據污垢的強度與該水溶液在水冷器中滯留12~24小時，當水冷器中有鹽酸溶液存有時，應在水冷器上留一個管口，便于排出來氣體。但務必留意，禁止用火貼近該孔，由于硫酸用于金屬材料上面溶解出氡氣，該氣與火觸碰可能發(fā)生爆炸事故。污垢融解以后，運用水清理水冷器，便于將融解后的污垢和硫酸排出來，或用小蘇打水溶液再度清理掉可能殘余的硫酸。如果有不清楚的地方最好是聯(lián)系廠家，不要自行處理。